بهبود رفتار ترشوندگی سل حاوی تنگستن برای تهیه لایههای نازک اکسید تنگستن
نویسنده
چکیده مقاله:
در این کار لایه�های اکسید تنگستن بر روی الکترود شفاف اکسیدی و همچنین شیشه نوری با استفاده از روش فروبری در سُل?های پایه آبی و الکلی آماده و سپس در 400 درجه عملیات حرارتی گردیدند. ترشوندگی لایه?های مورد استفاده توسط سُل?های آماده شده نیز با مشاهدات چشمی و تصویربرداری بررسی شد. لایه�های آماده شده با میکروسکوپ الکترونی روبشی، پراش اشعه X و همچنین ولتامتری چرخه�ای در محلول اسیدسولفوریک مورد مطالعه قرار گرفتند. نتایج نشان می�دهد که زیرلایه�های مورد استفاده توسط سُل?های آبی آماده شده، ترشوندگی نامطلوبی دارند در حالی که سل?های پایه آبی - الکلی به خوبی دو زیر لایه مورد استفاده را تر می�کنند. ترشوندگی زیر لایه حین خشک کردن در صورت استفاده از اتانول در سل?های مخلوط آبی - الکلی کاهش می?یابد این مشکل با استفاده از یک الکل سنگین ) لوریک الکل( مرتفع گردید که این کار به عنوان روش بهینه تهیه سل برای لایه نشانی اکسید تنگستن با استفاده ازاسید هیدروکسی تنگستیک تهیه شده از پیش?ماده سدیم تنگستات تعیین گردید. نتایج نشان می�دهد که حضور لوریک الکل اندازه دانه�ها و بلورک?ها را از حدود 40 نانومتر تا زیر 20 نانومتر کاهش می�دهد و فاز لایه نیز از مونوکلینیک به تریکلینیک تبدیل می�شود. داده�های ولتامتری چرخشی نیز خواص بهبود یافته الکتروکرمیک لایه اکسید تنگستن آماده شده را تایید می�کند.
منابع مشابه
اثر افزایش اکسید تنگستن بر خواص حفاظت فوتوکاتدی پوششهای تیتانیایی تهیه شده به روش سل-ژل
(اکسید تیتانیوم) تیتانیا یکی از ترکیباتی است که تحت تاثیر طیف ماوراء بنفش نور طبیعی فوتواکتیو میشود .دیده شده که افزایش اکسید تنگستن این خاصیت را در برابر نورهای مصنوعی بهبود میبخشد. دراین پژوهش، سل تیتانیوم با استفاده از پیشماده آلکوکسیدی تهیه و سدیمتنگستاتدیهیدراته به عنوان پیشماده اکسیدتنگستن در درصدهای مختلف به آن اضافه گردید و تاثیر آن بر روی خواص حفاظت کنندگی فوتوکاتدی پوششها بر...
متن کاملبررسی الکترواپتیکی لایههای نازک اکسید تنگستن و اکسید وانادیوم به منظور طراحی قطعه الکتروکرومیک
In this study, tungsten oxide and vanadium oxide electrochromic thin films were placed in vacuum and in a thickness of 200 nm on a transparent conductive substrate of SnO2:F using the physical method of thermal evaporation. Then they were studied for the optical characteristics in the wavelength range from 400 to 700 nm and for their electrical potentials in the range form +1.5 to -1.5 volts. T...
متن کاملتأثیر دمای بازپخت بر ویژگیهای اپتیکی و الکتروکرومیکی فیلمهای نازک اکسید تنگستن
Tungsten trioxide (WO3) thin films were coated onto fluorine tin oxide coated glass substrates, using electrodeposition technique via aqueous solution of peroxotungstic acid. WO3 films were evaluated as a function of annealing temperature (60°C, 100°C, 250°C and 400°C). The films were analyzed by field emission Scanning Electron Microscopy (SEM), UV-visible spectrometer and cyclic voltammogram....
متن کاملبررسی الکترواپتیکی لایه های نازک اکسید تنگستن و اکسید وانادیوم به منظور طراحی قطعه الکتروکرومیک
در این مطالعه لایههای نازک الکتروکرومیک اکسید تنگستن و اکسید وانادیوم به روش فیزیکی تبخیر حرارتی در خلأ در ضخامت 200 نانومتر بر روی زیر لایه هادی شفاف sno2:f جایگذاری شده و مورد مطالعه اپتیکی در بازه طول موج 400 تا 700 نانومتر و مطالعه الکتریکی در بازه پتانسیل 5/1- تا 5/1+ ولت قرار گرفتهاند. همچنین این لایهها به منظور بررسی میزان تغییر گاف انرژی با دما، در دماهای 120، 300 و 500 درجه سیلسیوس ...
متن کاملمنابع من
با ذخیره ی این منبع در منابع من، دسترسی به آن را برای استفاده های بعدی آسان تر کنید
ذخیره در منابع من قبلا به منابع من ذحیره شده{@ msg_add @}
عنوان ژورنال
دوره 3 شماره 4
صفحات 63- 69
تاریخ انتشار 2635-05-22
با دنبال کردن یک ژورنال هنگامی که شماره جدید این ژورنال منتشر می شود به شما از طریق ایمیل اطلاع داده می شود.
کلمات کلیدی
میزبانی شده توسط پلتفرم ابری doprax.com
copyright © 2015-2023